淺析實(shí)驗室等離子清洗機的清洗原理

　　實(shí)驗室等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體柔柔沖洗被清洗物的表面，短時(shí)間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度達到分子級。
 

　　實(shí)驗室等離子清洗機除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對某些有特殊用途的材料，在超清洗過(guò)程中等離子清洗器的輝光放電不但加強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。廣泛應用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫學(xué)、微觀(guān)流體學(xué)等領(lǐng)域。
 

　　實(shí)驗室等離子清洗機的清洗原理是通過(guò)化學(xué)或物理作用對工件表面進(jìn)行處理，實(shí)現分子水平的污染物去除，從而提高工件表面的活性。被清除的污染物可能為有機物、環(huán)氧樹(shù)脂、光刻膠、氧化物、微顆粒污染物等。對應不同的污染物，應采用不同的清洗工藝，根據選擇的工藝氣體不同，等離子清洗分為化學(xué)清洗、物理清洗及物理化學(xué)清洗。
 

　　1、化學(xué)清洗:表面作用以化學(xué)反應為主的等離子體清洗，氧等離子體通過(guò)化學(xué)反應可使非揮發(fā)性有機物變成易揮發(fā)的H2O和CO2。氫等離子體通過(guò)化學(xué)反應可以去除金屬表面氧化層，清潔金屬表面。
 

　　2、物理清洗：表面作用以物理反應為主的等離子體清洗，在自偏壓或外加偏壓作用下被加速產(chǎn)生動(dòng)能，然后轟擊在放在負電極上的被清洗工件表面，一般用于去除氧化物、環(huán)氧樹(shù)脂溢出或是微顆粒污染物，同時(shí)進(jìn)行表面能活化。
 

　　3、物理化學(xué)清洗：表面作用中物理反應與化學(xué)反應均起重要作用。