紫外清洗機|技術(shù)百科

　　紫外清洗機是一種廣泛應用于半導體行業(yè)的清洗設備，其主要作用是去除半導體器件表面的污染物，從而提高其表面的清潔度，并保證器件的正常工作。
 

　　紫外清洗機的操作步驟如下：
 

　　1、準備工作：首先需要將紫外清洗機準備好，包括清洗腔室、噴嘴、傾斜角度、紫外燈等，同時(shí)需要保證清洗機內無(wú)任何雜質(zhì)。
 

　　2、選擇程序：根據需要清洗的半導體器件的類(lèi)型和污染物的種類(lèi)，選擇相應的清洗程序。
 

　　3、清洗之前：在開(kāi)啟清洗程序之前，需要將半導體器件先清洗干凈。將器件置于去離子水中，輕輕地搓洗幾分鐘，然后用去離子水沖洗干凈。清洗后，應在紫外清洗機內進(jìn)行清洗程序。
 

　　4、開(kāi)啟清洗程序：?jiǎn)?dòng)清洗程序，紫外燈將開(kāi)始輻射。此時(shí)半導體器件將立即開(kāi)始被清洗。
 

　　5、時(shí)間控制：清洗時(shí)需要控制時(shí)間，一般情況下，清洗時(shí)間在5~10分鐘左右。時(shí)間太短會(huì )導致清洗，時(shí)間過(guò)長(cháng)則會(huì )浪費清洗機資源，增加清洗成本。
 

　　6、清洗結束：清洗結束后，需要將半導體器件取出并水洗干凈。用離子風(fēng)或干氮將半導體器件吹干即可。
 

　　需要注意的是，紫外清洗機的操作步驟不僅僅是以上這些，具體操作方式還需要根據清洗機的不同型號和半導體器件的要求進(jìn)行調整。同時(shí)，為了保證清洗的效果和安全，清洗機的操作人員應該具備一定的理論知識和實(shí)踐經(jīng)驗，才能有效地操作清洗機。