1、主要在液晶顯示器件、半導體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過(guò)程中采用光清洗方法較為合適。
2、主要材料:IT0玻璃、光學(xué)鏡頭、顯微鏡探針、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理。
3、可以去除污垢:有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹(shù)脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。
紫外清洗機的保養事項如下:
1、在干燥通風(fēng)平穩的位置安放設備。
2、在對設備使用的過(guò)程,需要特別留心,不要對產(chǎn)品進(jìn)行隨意地挪動(dòng)或者不能夠將紫外臭氧清洗機的上蓋打開(kāi),從而防止導致溢水的情況發(fā)生。
3、在對設備使用結束以后,為了防止機器內部有一位產(chǎn)生或者有細菌滋生,需要對其進(jìn)行及時(shí)地清潔。通常的清潔劑即能夠使用。
4、應當保持設備的潔凈與干燥,尤其值得注意的是預防回水。對儀器的電壓電流是否正常進(jìn)行定期的檢查。
5、對于工具的檢查與保養大概一周有一次,往軸承等轉動(dòng)部位添加黃油,往氣動(dòng)馬達部位添加機油。
6、長(cháng)時(shí)間不使用時(shí)可以把各部分的泥土等的物體進(jìn)行沖洗擦拭干凈,各個(gè)回轉部以及皮帶和鏈條等的附著(zhù)的雜物都要的清除而且各回轉部及磨擦主動(dòng)部,充分注油以防止生銹現象的出現。